1. Nitride ferrochroom met laag koolstofgehalte in een vacuümverwarmingsoven op 1150 graden om ruw ferrochroomnitride te verkrijgen, dat vervolgens wordt behandeld met zwavelzuur om ijzeronzuiverheden te verwijderen. Na filtreren, wassen en drogen wordt chroomnitride verkregen. Het kan ook worden verkregen door de reactie van ammoniak en chroomhalogenide.
2. Verwarm hoogzuiver elektrolytisch chroompoeder gedurende 160 uur bij 1060 graden in een stikstofstroom van een kolom van 150 mmHg (1 mmHg=133.322 Pa), laat vervolgens de stikstof ontsnappen en blus om Cr2N te verkrijgen.
3. Ferrochroom met laag koolstofgehalte vermalen tot<3mm, take 1000kg and nitride it in a vacuum heating furnace at 1150°C and a nitrogen pressure of 0.0987MPa for 24 hours to obtain coarse nitride ferrochromium. After cooling, crush it to <0.3mm, and take 1000kg for nitriding again at 950°C (other conditions are the same as before). After cooling, crush it to <0.3mm, put it into a 1 cubic meter reactor, and treat it with sulfuric acid for 16 hours to remove the iron. Filter, wash and dry. 109kg of chromium nitride was recovered, containing Cr78.6%, N219.6%, O20.80%, Fe0.59%, and C0.13%. It can also be obtained by the reaction of ammonia and chromium halide.
Chroomnitride wordt vaak gebruikt als dunne filmcoating. Met een hoge hardheid en goede slijtvastheid is het een zeer gewaardeerde slijtvaste coating. De chroomnitridefilm vervaardigd door galvaniseren met holle kathode-ionen heeft een tweefasenstructuur Cr+Cr2N, een korrelgrootte van 20-70nm en een hardheid van HV22GPa. Na vacuümgloeien kan dit worden verhoogd tot HV35,4GPa. De slijtvastheid is beter dan die van CrC-film. De reactieve sputterende chroomnitridefilm kan twee structuren verkrijgen, Cr+Cr2N of eenfasige CrN, met hardheden variërend van HV20 tot 25GPa (hardheid van bulk CrN HV11GPa).
